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軟銲

96/08/07 瀏覽次數 18232
軟銲(soldering)是一種現代工藝常見的連結技術,尤其在電子產品中更是扮演了重要的角色。它是利用一種較低熔點的金屬,把兩種不同的基材連結在一起的「銲接」技術。

中國古代銲接技術

在漢代班固所撰的《漢書》中,已有「胡桐淚盲似眼淚也,可以汗金銀也。今工匠皆用之」。其中所指的「汗」就是「銲」。

現代銲接的技術種類很多,主要可以分為軟銲、硬銲(brazing)與熔接(welding)。硬銲與軟銲較為接近,都是使用較低熔點的材料連結不同的基材。這種用於連結的低熔點材料,稱為銲料(solder或braze)。軟銲所用的銲料熔點較低,通常低於攝氏400度。軟銲與硬銲的加工溫度高於銲料的熔點,但是低於待連結材料的熔點。在加工的過程中,銲料熔融成為液體,與待連結的基材接觸濕潤,冷卻後銲料凝固使基材連結在一起,成為不可分的一體。

由大陸曾侯乙墓出土,並被列為商周十大青銅器精品的「尊盤」,已可見到銲接技術約在戰國早期的充分利用。尊和盤是兩件器具,尊用來盛酒,盤則用以裝水或冰,其用途是為了冷酒或冰酒。尊有34個組件,經過56處銲接;盤則有38個組件,經過44處銲接而成。所用組件與銲接點的數量之多,非常少見。

在出土的漢朝古墓中,也發現了銲接的古銅鏡。在西元前3600年的古埃及人,已使用錫銲接的銀擺設、銀銲接的管子、銅缽的銀把手,以及金銲接的護符盒,且在圖坦卡門(Tutankhaumen)法老的古墓內發現保存良好的銲接藝術品。西元79年的古羅馬,在被火山爆發埋沒的龐貝城中曾發現用錫鉛銲接的家用鉛製水管。

軟銲所用的銲料與待連結的基材,通常以金屬為多。金屬的表面常會形成氧化物而妨礙軟銲的進行,因此在軟銲的製程中,通常需要引進助銲劑(flux)去除氧化物並使表面潔淨,以讓軟銲的程序得以完成。

明代方以智所撰《物理小識》提到「銲藥以硼砂合銅為之,若以胡桐汁合銀,堅如石。今玉石刀柄之類銲藥,加銀一分其中,則永不脫。試以圓盆口點銲藥於其一隅,其藥自走,周而環之,亦一奇也」。這一記述明確指出了銅的銲接應以硼砂做為助銲劑,而銀的銲接可以使用胡桐樹脂為助銲劑,並且對銲料的填縫行為做了非常精彩的描述。

直到整個中世紀,銲接技術前進的腳步十分地緩慢,寶石飾品等的連結仍是主要的應用。隨著19世紀的工業革命,銲接技術開始蓬勃發展。這時候的銲接應用,主要是關於容器的密封、一些金屬的連結,以及水管組裝。

從20世紀起,軟銲技術開始融入電子產業。在電子產品的應用當中,除了把基材機械性地連結在一起外,通常尚需同時保有電路的連結。軟銲的技術有效地提供電子元件間所須的機械固定、電能傳送、訊號傳遞等需求,尤其是在製程上相對的簡易與價格上相對的便宜,歷經半世紀的發展,軟銲已成為電子產品中最主要的連結技術。

電子產品的銲接技術

一般的電子產品,除了輸出、輸入與電源部分外,都會有控制整個產品功能的印刷電路板或卡,例如電腦主機板與主機板上的元件。在主機板的印刷電路板上有著各式各樣的電子元件,這些電子元件都是使用軟銲的技術形成銲點,把它們連結在印刷電路板上。

全世界每年電子產品中銲點的數目,不可勝數,而銲點品質的良窳與電子產品的可靠度息息相關。一般電子產品不良的問題,除了不當使用的原因之外,銲點的破壞與失效是最主要的原因。因此隨著電子工業的蓬勃發展,軟銲技術更形重要,對銲點的分析與探討也更加受到關注。

軟銲的工業製程可以分為迴銲(reflow soldering)、波銲(wave soldering),以及人工使用的電烙鐵(solder iron)銲接。迴銲的製程是先使印刷電路板上架,接著依序擺置銲料及待連接的電子元件,再使這組合通過迴銲爐,把銲料熔化,銲湯濕潤上下基材,當這組合離開迴銲爐後,銲料冷卻就形成接點。

波銲則是先使銲料在錫爐內熔融,把電子元件置於印刷電路板上,先通過助銲劑的熔爐,接著通過錫爐,銲湯濕潤界面後,冷卻形成接點。這個製程之所以稱為波銲,在於為了確保在短暫時間內有足夠量的銲湯進入接點,並且迅速濕潤基材,因此錫爐中有產生波浪的裝置,以達到最佳的連接效果。隨著製程的不同,銲料的型態也略有不同,大致上可以分成銲條、銲膏、銲線等。

目前銲接技術的挑戰

銲接技術已發展了數千年,但是隨著不同應用的拓展,各種問題仍然持續發生。軟銲在科學與工業應用上,仍然是非常具有挑戰性的主題。1998年美國太空總署(NASA)所發射的軌道衛星Galaxy IV發生故障,經過調查後發現衛星的兩個控制處理器都已損壞,其中一個控制處理器的故障原因,是由一條寬度比頭髮還要細的錫鬚所造成的。

錫鬚是細長針狀的錫結晶,若是達到一定長度而與其他接腳接觸,會造成元件的短路。錫鬚一般認為是內部壓縮應力及表面氧化所造成的,它的成長是釋放應力的管道,我們可以想像成麵條由撐滿麵糰的塑膠袋破洞中擠出來的情形。衛星的造價十分昂貴,卻會因為銲點的問題而付之一炬。也難怪美國太空總署會設立一個專門討論金屬鬚的網站,以提供這類的資訊。

軟銲目前所遭遇到的技術上的挑戰,最主要是新材料的引進。長久以來,軟銲中所用到的銲料都是以錫鉛合金為主,因為它有熔點低、性質優良、價格低廉等優點。然而鉛具有毒性,近年來開始有禁用或限制使用的呼聲。

歐盟議會通過了RoHS(Restriction of Hazardous Materials)法案,規定成員國必須在2006年7月1日以後禁止大部分鉛的使用。日本的JEIDA(Japanese Electronic Industry Development Association)也訂定出無鉛銲料的使用時程,規定有鉛銲料在2005年以後只能用在部分特例上。之後許多國家相繼跟進禁鉛的計畫,也宣告無鉛銲料時代的來臨。

無鉛銲料的要求對各項產業帶來非常大的衝擊,因此發展國家非常重視無鉛銲料的研究,紛紛訂定各自的發展計畫,期望可以找到適當的無鉛銲料,把衝擊減到最低。
美國的NCMS (National Center for Manufacturing Sciences)、NEMI(National Electronics Manufacturing Initiative)、歐盟的BRITE-EURAM、日本的NEDO(New Energy and Industrial Technology Development Organization)等機構,各自提出多種不同合金組成的銲料,例如Sn-Cu、Sn-Ag、Sn-Zn、Sn-Ag-Bi、Sn-Ag-Cu等,而目前最被看好的銲料,則是以錫銀銅合金為主的無鉛銲料。

無鉛銲料的開發與研究是目前非常熱門的議題,新組成的銲料必須有良好的性質。另一方面,以工業的角度來看,低成本並且與舊有設備有良好匹配性的銲料也是非常重要。

除了新材料的挑戰外,軟銲技術隨著電子產品往更小、更輕、更薄的方向發展,在技術上也不斷地推陳出新。如從1990年中期起,面積陣列式構裝開始發展,採用面積陣列式構裝的組件,是把組件底部的所有面積與電路板進行連結。最常見的面積陣列式組件是球柵式陣列構裝,最初是由摩托羅拉公司在西元1989年量產上模壓成型塑膠載體球柵陣列構裝而揭開序幕。

球柵陣列式構裝主要以小顆粒銲球做為組件與電路板間的連結,銲球可提供較短的電流傳遞途徑,如此會產生較小的電感,降低訊號的衰退,進而改善整體線路的性能。

近年來覆晶技術的發展,更使得軟銲技術層次更加地提升。在以往電子產品中,軟銲是用在已封裝完成的電子元件與基板間,而目前的覆晶技術則是直接用在積體電路與基板的連接。

覆晶製程首先由IBM在1962年推出,主要應用於陶瓷基板上做為固態邏輯技術。在1970年,IBM把這項技術開發成IC所用的連接技術,稱為C4的技術。積體電路晶粒與基板的連結,是以晶粒上的銲料凸塊和在基材上的連接材料所形成的電路連結。目前覆晶技術炙手可熱,是正值大放異彩的構裝技術,已有不少相關產品出現在市場上,未來幾年必定能看到更多的覆晶接合產品。

電流通過銲點的效應,也是軟銲面臨的重要課題。電流的效應主要有焦耳熱效應、電遷移效應、電流聚集效應等。電遷移是金屬原子在電場作用下產生遷移的現象,原子的移出會形成孔洞,而多餘的原子移入累積會造成突起。孔洞與突起的成長會影響導線短路或斷路,導致元件失效。

電流通過所產生的焦耳熱效應,提高了銲點的溫度,因為銲料主要是低熔點的金屬,升溫會顯著加速銲點中的界面反應。而電遷移效應與電流聚集效應的加入,使得銲點的界面反應與微結構變化更加複雜與難以預測。在電子產品輕薄短小的潮流下,銲點與導線的尺寸不斷下降,通過的電流密度也隨著增加,更使得電流效應愈形重要。對軟銲銲點的探討,尤其是電流效應的研究,同時充滿著探討未知的學術趣味與工業應用上的重要性。

軟銲技術歷經數千年的發展,橫跨青銅器時代、古埃及,到現代歷久不衰。尤其從20世紀開始,成為電子產品的最主要連結技術,對人類文明的發展更有著重要的影響。電子產品科技日新月異,使得軟銲技術持續提升。近年來環保意識抬頭,無鉛銲料的轉換已對製程造成很大的衝擊。電子產品輕薄短小化的發展,則使電流效應更顯著地影響銲點的可靠性。如此古老的軟銲技術,卻在當今高科技工業上大量應用,並在科學上持續有新的挑戰,實在是令人驚嘆。
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